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众所周知,封装业属于整个IC生产中的后道生产过程,在该过程中,对于塑封IC、混合IC或单片IC,主要有晶圆减薄(磨片)、晶圆切割(划片)、上芯(粘片)、压焊(键合)、封装(包封)、前固化、电镀、打印、后固化、切筋、装管、封后测试等等工序。各工序对不同的工艺环境都有不同的要求。工艺环境因素主要包括空气洁净度、高纯水、压缩空气、C02气、N:气、温度、湿度等等。
对于减薄、划片、上芯、前固化、压焊、包封等工序原则上要求应该在超净厂房内设立,因在以上各工序中,IC内核--芯粒始终裸露在外,直到包封工序后,芯粒才被环氧树脂包裹起来。这样,包封以后不仅能对IC芯粒起着机械保护和引线向外电学连接的功能,而且对整个芯片的各种参数、性能及质量都起着根本的保持作用。在以上各工序中,哪个环节或因素不合要求都将造成芯粒的报废,所以说,净化区内工序对环境诸因素要求比较严格和苛刻。超净厂房的设计施工要严格按照**标准GB50073-2001《洁净厂房设计规范》的内容进行。
1空调系统中洁净度的影响
对于净化空调系统来讲,空气调节区域的洁净度是**重要的技术参数之一。洁净厂房的洁净**常以单位体积的空气中**大允许的颗粒数即粒子计数浓度来衡量。为了和**标准尽快接轨,我国在根据IS014644-1的基础上制定了新的**标准GB50073-2001《洁净厂房设计规范》,其中把洁净室的洁净度划分了9个**。
结合不同封装企业的净化区域面积的大小不一,再加之由于尘粒在各工序分布的不均匀性和随机性,如何针对不同情况来确定合适恰当的采集测试点和频次,使洁净区域内洁净度控制工作既有可行性,又具有经济性,进而避免偶然性,各封装企业可依据**行业标准JGJ71-91《洁净室施工及验收规范》中的规定灵活掌握。
由于微电子产品生产中,对环境中的尘粒含量和洁净度有严格的要求,目前,大规模IC生产要求控制0.1μm的尘粒达到1级甚至更严。所以对IC封装来说,净化区内的各工序的洁净度至少应该达到1级。
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